语言询问关于荏原编辑部业务与产品支持股东/投资者信息可持续发展技术信息招聘顶部产品查找器G5型G5型高效处理可燃气体及温室气体（PFCs气体）、燃烧式废气处理设备燃烧式废气处理设备多气体批量处理高效处理 PFC 气体副产品计量/自动排粉功能运行成本低高正常运行时间根据气体种类和数量按需运行提高可维护性符合 CE 标志/SEMI-S2/NRTL 要求目录询问产品介绍G5型是燃烧式废气处理装置，可高效
G5型是燃烧式废气处理装置，可高效处理制造过程中使用的各种气体。它可以同时处理多种气体，从而能够高效处理通常难以处理的 PFC 气体。我们独特的副产品对策和根据所处理气体的类型和数量进行的按需（可变燃料供应）操作降低了运行成本。非常适合用于半导体、液晶板、太阳能电池、LED等电子元件制造企业、化学品和材料制造商以及各种实验室。我们还提供一系列大流量型号，最大流量为 1,200 L/min。
| 模型 | 单元 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 加工方法 | 燃烧式+湿式 | 燃烧式+湿式 | 燃烧式+湿式 | 燃烧式+湿式 | |
| 最大允许流入气体量 | 升/分钟 | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 燃料 | 可选择城市煤气或丙烷气 | 可选择城市煤气或丙烷气 | 可选择城市煤气或丙烷气 | 可选择城市煤气或丙烷气 | |
| 尺寸 | 宽 x 深 x 高 毫米 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 可处理的气体示例 | 工艺（沉积）气体 ：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。 一般清洁气体 ：NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。 一般蚀刻气体： HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。PFC ： CF4 、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 | 工艺（沉积）气体 ：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。 一般清洁气体 ：NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。 一般蚀刻气体： HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。PFC ： CF4 、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 | 工艺（沉积）气体 ：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。 一般清洁气体 ：NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。 一般蚀刻气体： HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。PFC ： CF4 、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 | 工艺（沉积）气体 ：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。 一般清洁气体 ：NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。 一般蚀刻气体： HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。PFC ： CF4 、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 | |
| 标准设备 | 燃烧器刮刀，用于清除粉末 | 燃烧器刮刀，用于清除粉末 | 燃烧器刮刀，用于清除粉末 | 燃烧器刮刀，用于清除粉末 | |
| 选项 | 城市供水及污水处理使用量削减单位 | 城市供水及污水处理使用量削减单位 | 城市供水及污水处理使用量削减单位 | 城市供水及污水处理使用量削减单位 | |
燃烧式废气处理设备通过提供低NOx和丰富的反应副产物来降低维护成本
最大处理能力1,200L/min的大流量燃烧废气处理设备
高效安全处理PFCs气体，无需废水处理，干式废气处理设备
集成式干式真空泵及废气处理系统，可优化腔体排气及废气处理工艺，降低集成及管理成本。
